金屬靶材的介紹
金屬靶材是壹種常見的材料，用於物理氣相沈積（Physical Vapor Deposition，PVD）技術中的濺射鍍膜過程。金屬靶材通常以固體的形式存在，具有以下特點：
1. 材料種類廣泛：金屬靶材可以包括各種金屬元素，如銅、鋁、鐵、鈦、鉻、鎳等。不同的金屬靶材具有不同的物理、化學和電學性質，適用於不同的應用場景。
2. 高純度：金屬靶材通常具有高純度，以確保薄膜的質量和性能。高純度的金屬靶材可以減少雜質對薄膜的影響，使得薄膜具有較好的電學和光學性能。
3. 尺寸和形狀：金屬靶材通常以圓盤或矩形形狀存在，具有特定的直徑、厚度和尺寸。這些尺寸和形狀可以根據具體的濺射設備和需求進行定制，以適應特定的鍍膜過程。
4. 耐熱性：金屬靶材通常需要具有較高的耐熱性能，以承受高能量的離子轟擊和濺射過程中的高溫。耐熱的金屬靶材可以保持較長時間的穩定濺射，延長靶材的使用壽命。
5. 加工性能：金屬靶材通常具有較好的加工性能，可以進行切割、修整和安裝等加工過程。這樣可以根據實際需求制備適合的靶材形狀和尺寸。