硼擴散,主擴散通入氧氣的目的

控制硼源過量通入。在硼擴散的方法中可知，主擴散通入氧氣的目的是控制硼源過量通入，確保擴散爐內的各個矽片的各個位置都沈積有足量的硼單質，擴散是微觀粒子的壹種極為普遍的熱運動形式，各種分離器件和集成電路制造中的固態擴散工藝簡稱擴散，硼擴散工藝是將壹定數量的硼雜質摻入到矽片晶體中，以改變矽片原來的電學性質。