中微半導體5nm刻蝕機
近兩年，我國半導體行業的發展速度很快，但和美國等 科技 巨頭相比較，技術仍是落後別人，但是國內產生所自研的技術、設備都能達到世界領先水平。最成功的案例莫過於蝕刻機設備，國內芯片企業所自研的蝕刻機已打破海外的技術壟斷。
很多人都不清楚，蝕刻機的重要性並不低於光刻機，兩者皆是生產高端芯片的重點設備。
但是，我國的光刻機設備壹直處於十分落後的狀態，很難讓國內半導體廠商生產出高端芯片工藝。而蝕刻機在我國卻是特別先進，用於下壹代新高端工藝芯片生產，也是綽綽有余。
據了解，中微半導體的所自研的高精度蝕刻機已達到5nm，是國內半導體高端設備的頂尖存在，更是國際半導體行不可忽視的力量。在全球半導體設備企業滿意度調查中，中微半導體公司排進世界第三，這也說明很多客戶對於中微半導體產品是非常認可的。
要知道，中微半導體之所可以取得今日的巨大成就，完全離不開中微半導體創始人尹誌堯，尹誌堯擁有200多項各國專利和86項美國專利，而在美國矽谷也是具有壹定影響力的華人之壹。60歲時的尹誌堯身披榮譽，決定攜帶團隊回國創業。
尹誌堯攜團隊回國，創辦了中微半導體公司，並且展開對蝕刻機設備的研發，僅僅幾年時間，中微半導體企業便自研出第壹代介質刻蝕機，該蝕刻機采用單獨操作雙反臺，該設備相比其它蝕刻機效率提升了30％，中微半導體也在市場上獲得了好名聲。
隨著中微半導體的創新技術不斷產出，在壹段時間當中，中微半導體毅然遭到了美國技術的封鎖，直到2015年期間，美國才放棄對中微半導體公司的技術封鎖。
中微半導體成立的第11年，中微半導體再次自研出首臺最先進的5nm刻蝕機，自此，中國的5nm蝕刻機在全球確立了5nm刻蝕機技術的地位領先。
現如今的中微半導體5nm蝕刻機設備已和臺積電等芯片代工企業采購，目前，對於國內的芯片產業鏈來看，中微半導體已經可以長久的供應技術維持。
對於中微半導體公司的未來發展妳怎麽認為？