tmah是什麽化學名稱
簡介：
無色結晶（常含三、五等結晶水），極易吸潮，有壹定的氨氣味，具有強堿性，在空氣中能迅速吸收二氧化碳，形成碳酸鹽為有機強堿，具有較強的腐蝕性。通常制10%、25%的水溶液，含5分子結晶水的四甲基氫氧化銨為無色潮解性針狀結晶，熔點62~71℃，沸點120℃，加熱到沸點時易分解成三甲胺、二甲醚(90%)和甲醇(5%)。
物化性質
蒸氣壓：17.5 mm Hg ( 20 °C)
儲存條件 2-8°C
穩定性：穩定的，易燃。不相容的是具有較強氧化劑，如強大的氨基酸。
不可與鋁，堿金屬，強氧化劑，酸，酰氯，酸酐，鹵素混合。
用途
1.在有機矽方面，四甲基氫氧化銨作為二甲基矽油，氨基矽油，苯甲基矽油，有機矽擴散泵油，無溶劑有矽模塑料，有機矽樹脂，矽橡膠等的催化劑；
2.在分析方面，四甲基氫氧化銨作為極譜試劑；
3.在產品提純方面作為無灰堿用以沈澱許多金屬元素；
4.在有機矽片生產中常用作計算機矽片面用光亮劑、清洗劑和觸刻劑等。
優點：
四甲基氫氧化銨優點是：它具有強堿性，在不超過分解點的溫度下穩定。當催化完畢後很容易除掉，不留任何殘渣。對有機矽產品無汙染。因此又稱為“暫時催化劑”，在分析中可用於極譜試劑用來沈澱不含灰粉的許多元素的氫化物。
包裝：
塑料瓶、塑料桶。
正膠顯影
工藝中主要用的顯影液是四甲基氫氧化銨(Tetramethylammonium Hydroxide, TMAH)，NTD顯影液是乙酸正丁酯(n-Butyl Acetate, nBA)
TMAH水溶液的主要成分是水，占99%以上。它被廣泛用於光刻工藝中的顯影。不管是I-線、248nm、193nm、193nm浸沒式或是EUV，都是使用TMAH水溶液做顯影液。有時為了避免光刻膠線條的倒塌，還可以在TMAH水溶液中添加很少量的表面活化劑。壹般來說，壹個Fab生產線只使用壹種顯影液，顯影液通過管道輸送到每壹個勻膠顯影設備，又叫做廠務集中供應(bulk delivery)
隨著光刻線寬和均勻性的要求越來越高，光刻界也試圖改變現有的TMAH顯影液。例如，使用6.71 wt%的TBAH (tetrabutylammonium hydroxide)水溶液作為顯影液。初步的實驗結果顯示，TBAH能夠減少顯影時光刻膠的膨脹並使得光刻膠圖形表面更加不親水，能有效地減少線條的倒塌。而且，TBAH比TMAH有更高的顯影靈敏度。從20nm技術節點開始，負顯影技術(Negative Tone Develop, NTD)被廣泛用於關鍵層的光刻。負顯影技術中的關鍵材料是顯影液以及顯影後的沖洗液。它們不再是TMAH和去離子水，而是特殊設計的有機溶劑。
光刻膠在顯影液中的溶解行為與光刻膠的靈敏度以及最終圖形的邊緣粗糙度都有關聯。使用高速原子力顯微鏡(High Speed Atomic Force Microscopy, HS-AFM)可以原位(in-situ)觀察顯影時圖形形成的過程