脈沖激光器的詳細信息
調Q技術最早出現於1962年，其誕生是激光發展史上的壹個重要突破。在此之前，由於普通脈沖激光器輸出的馳豫振蕩，我們很難獲得峰值功率高而脈寬窄的激光脈沖。調Q技術的應用，使我們能夠獲得峰值功率在兆瓦以上而脈寬僅為納秒量級的激光脈沖，使激光成為非常強的相幹光源，並由此產生了非線性光學等新的光學分支。同時，也推動了諸如激光雷達、激光測距、高速攝影、核聚變等應用技術的發展。
在普通激光器中加入調Q元件即構成調Q激光器。根據調Q元件所采用的介質及其工作方式的不同，調Q激光器可分為電光調Q、聲光調Q 、可飽和吸收調Q與機械轉鏡調Q四類。其中，電光調Q和聲光調Q是目前應用較為廣泛的調Q技術。
電光調Q是利用某些晶體所具有的線性電光效應實現Q值突變的，具有開關時間短、效率高、調Q的時刻可以精確控制、系統工作穩定、重復頻率高、輸出脈寬窄（10~20ns）、峰值功率高（幾十兆瓦以上）等優點。
聲光調Q是利用激光通過聲光介質中的超聲場時發生衍射效應，造成光束的偏折來控制諧振腔的損耗，從而實現Q值突變的。它具有性能穩定、重復頻率高（1~20kHz）、調制電壓低（壹般<200V）等優點，適用於中小功率、高重頻的脈沖激光器。
電光調Q或聲光調Q都是人為地利用光通過在電場或聲波場作用下的電光或聲光介質所發生的各種物理效應，從而控制腔內的反射損耗來實現Q值突變的，是壹種主動式的調Q方法。
而可飽和吸收調Q技術，則是利用可飽和吸收體本身的吸收特性（即它是壹種非線性吸收介質，在比較強的激光作用下，它的吸收系數會隨光強的增加而逐漸減小直至飽和，對光呈現出透明的特性），通過控制腔內的吸收損耗來調節Q值的，是壹種被動式的調Q方法，它具有結構簡單、方便實用的特點。
半導體可飽和吸收體（SESAM）技術出現於1992年，現已廣泛地應用於固體激光器和光纖激光器，以實現短脈沖或超短脈沖。SESAM的基本結構就是把反射鏡與吸收體結合在壹起。底層壹般為半導體反射鏡，其上生長壹層半導體可飽和吸收體薄膜，最上層可能生長壹層反射鏡或直接利用半導體與空氣的界面作為反射鏡。這上下兩個反射鏡就形成了壹個法布裏-珀羅腔，改變吸收體的厚度以及兩反射鏡的反射率，可以調節吸收體的調制深度和反射鏡帶寬。
隨著科學的發展，很多應用技術（例如激光熱核反應、激光同位素分離、精密測距等）要求能夠獲得超短脈沖，即脈寬達到納秒以下量級的光脈沖。此時單純適用調Q的方法，受腔長和調Q器件等條件的限制，已無法進壹步壓窄脈寬。
鎖模作為壹種新的壓縮脈寬的途徑，又被稱為超短脈沖技術。它的定義包含兩方面內容：各振蕩縱模初相位鎖定；各振蕩縱模頻率間隔相等且固定為c/2nL（L為腔長）。
按照鎖模的工作原理，實現鎖模的方法分為主動鎖模、被動鎖模、同步泵浦鎖模、自鎖模和碰撞鎖模等多種形式。下面主要介紹前兩種：
主動鎖模采用周期性調制諧振腔參量的方法，其基本原理是：在諧振腔中插入壹個受外界信號控制的調制器，用壹定的調制頻率周期性的改變腔內振蕩模的振幅或相位。主動鎖模的實現多采用聲光或電光調制器。
被動鎖模是將可飽和吸收體放在諧振腔內加以實現的，其原理主要是利用可飽和吸收體的非線性吸收效應。被動鎖模方法和被動Q開關二者之間的區別主要表現在：被動鎖模要求可飽和吸收體上能級的壽命非常短。