蝕刻機，啥叫光刻機，啥叫光柵刻畫

蝕刻機可以分為化學蝕刻機及電解蝕刻機兩類。在化學蝕刻中是使用化學溶液，經由化學反應以達到蝕刻的目的，化學蝕刻機是將材料用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。

光刻機(Mask?Aligner)?又名:掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫?Mask?Alignment?System.壹般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。Photolithography(光刻)?意思是用光來制作壹個圖形(工藝);在矽片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時"復制"到矽片上的過程。

光柵刻畫:光學中光柵最通常的作用是色散。光柵刻劃是制作光柵的方法之壹。