等離子刻蝕機的構造與工作原理

等離子刻蝕機的組成壹般包括等離子發生器（工業上常用RF激發法），真空室，和電極。

其工作原理是用等離子體中的自由基（radical）去轟擊（bombard）或濺射（sputter）被刻蝕材料的表面分子，形成易揮發物質，從而實現刻蝕的目的。也有部分等離子刻蝕機采用反應離子刻蝕技術（Reactive Ion Etching）。