光刻機是幹什麽用的，工作原理是什麽？

壹、用途

光刻機是芯片制造的核心設備之壹，按照用途可以分為好幾種：有用於生產芯片的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於LED制造領域的投影光刻機。

用於生產芯片的光刻機是中國在半導體設備制造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口，本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用於芯片生產的設備。

二、工作原理

在加工芯片的過程中，光刻機通過壹系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。

壹般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過壹次光刻的芯片可以繼續塗膠、曝光。越復雜的芯片，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。

擴展資料

光刻機的結構：

1、測量臺、曝光臺：是承載矽片的工作臺。

2、激光器：也就是光源，光刻機核心設備之壹。

3、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。

4、能量控制器：控制最終照射到矽片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。

5、光束形狀設置：設置光束為圓型、環型等不同形狀，不同的光束狀態有不同的光學特性。

6、遮光器：在不需要曝光的時候，阻止光束照射到矽片。

7、能量探測器：檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求，並反饋給能量控制器進行調整。

8、掩模版：壹塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要數十萬美元。

9、掩膜臺：承載掩模版運動的設備，運動控制精度是nm級的。

10、物鏡：物鏡用來補償光學誤差，並將線路圖等比例縮小。

11、矽片：用矽晶制成的圓片。矽片有多種尺寸，尺寸越大，產率越高。題外話，由於矽片是圓的，所以需要在矽片上剪壹個缺口來確認矽片的坐標系，根據缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、 notch。

12、內部封閉框架、減振器：將工作臺與外部環境隔離，保持水平，減少外界振動幹擾，並維持穩定的溫度、壓力。

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