鍍膜機RF源作用

鍍膜機RF源運用於高度控制的光學鍍膜的離子束輔助沈積或離子束沈積。RF離子源首先使用13.56MHz高頻信號激勵電離子體，產生等離子體，然後分別抽出離子、電子，讓其在空間內中和形成等離子體的高能離子源。

鍍膜機常用的幾種鍍膜方法

鍍膜機鍍工件，有好幾種鍍膜方式，需要根據產品工件的特性，以及要到達的效果和使用環境去選擇鍍膜方式的，需要的效果不壹樣，采用的鍍膜工藝是有差別的。真空蒸發、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。