中國進口日本半導體設備有哪些
中國進口日本半導體設備有曝光機，離子註入機，等離子刻蝕機，薄膜沈積機。
1、曝光機：用於半導體制造中的光刻工藝，將光阻層圖案投射到矽片上。
2、離子註入機：用於半導體制造中的摻雜工藝，將雜質原子註入到矽片上，改變矽片電學性質。
3、等離子刻蝕機：用於半導體制造中的刻蝕工藝，將光刻後的圖案刻蝕到矽片上。
4、薄膜沈積機：用於半導體制造中的薄膜制備工藝，將金屬或者氧化物等材料沈積到矽片表面。
1、曝光機：用於半導體制造中的光刻工藝，將光阻層圖案投射到矽片上。
2、離子註入機：用於半導體制造中的摻雜工藝，將雜質原子註入到矽片上，改變矽片電學性質。
3、等離子刻蝕機：用於半導體制造中的刻蝕工藝，將光刻後的圖案刻蝕到矽片上。
4、薄膜沈積機：用於半導體制造中的薄膜制備工藝，將金屬或者氧化物等材料沈積到矽片表面。